XUV光谱仪(1-200nm) | 瑆创光学电子商店

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Products / 光学分析 /光谱仪 /X射线/极紫外光谱仪 (1-300nm) /极紫外光谱仪(1-200nm) /

极紫外光谱仪(1-200nm)

规格参数 maxLIGHT easyLIGHT beamLIGHT 相关产品立即下单！

XUV光谱仪规格

光学指示器	典型值			备注
产品型号	max LIGHT Pro (XUV)	easy LIGHT (XUV)	high LIGHT(XUV)
波长 (nm)	5 到 80	30 到 250	1 到 100
分散	0.5 至 1.3nm/mm	~2.0nm/mm	-
解析度	<0.028nm 在 40nm	<0.1nm	-
平场尺寸	-	75mm	-
偏角	-	9 4 °	-
源距离	灵活的
探测器	CCD或MCP/CMOS
工作压力 (mbar)	<10 -6			提供特高压版本
无缝隙技术	是的
入口狭缝	选修的
光栅定位	电动闭环
光谱过滤器插入单元	是的
控制接口	USB 或以太网
软件	Windows UI 和 LabVIEW/VB/C/C++ SDK
可定制	完全可定制
选项	非磁性、旋转几何等。

光学指示器	典型值		备注
产品型号	beamLIGHT 60nm/21eV (XUV)	beamLIGHT 13.5nm/90eV (XUV)
每个谐波的平均功率	高达 400uW	高达 0.9uW
谐波带宽	<10 -2	<5 • 10-3
每个谐波的光子通量	高达 1014 ph/s	高达 5 • 1010 ph/s
每个谐波的光子通量	高达 1014ph/s		高达 5 • 1010 ph/s
谐波带宽	<10-2		<5 • 10-3
通量波动	12 小时内 <3% rms
指向波动	12 小时内 <3urad rms
工作压力 (mbar)	<10		<10-11 mbar 可用
定位	手动或电动闭环
可定制	完全可定制

光谱仪中的无狭缝技术

源的直接成像

与传统设备相比，惠普创新的 XUV / VUV 光谱仪不需要窄

入口孔径，而是将谐波源直接成像到探测器上。因此 80% 或更多的

入射光束可用于测量。这种配置通常收集 15 到 25 倍的光

与标准版本相比，信噪比提高了相同的比率。在一些实验中，

这种改进的信号强度是实现测量的关键步骤。

卓越的信号强度

光谱仪收集的光量是影响其整体灵敏度的关键因素，也是获得高光谱所需的最重要特征

即使来源较弱，也能提供高质量的数据。传统光谱仪使用距光栅固定距离的入口孔径（狭缝）来创建一个小光源，

然后分散并成像到检测器上。与此相反，H+P 光谱仪可以配置为直接对位于任何位置的辐射源进行成像

从光栅到探测器的距离。在实践中，与点状辐射源相比，这允许收集 15 到 25 倍的光。

具有 100µm 入口狭缝的传统光谱仪不会降低光谱分辨率。

坚固的设计

我们的 XUV 和 VUV 光谱仪的紧凑型设计使其对机械和环境干扰（振动、声学、

ETC）。外部没有移动部件，仪器内部带有绝对位置监控的闭环电机增加了坚固性并允许监控

光栅始终对齐。光谱仪可以直接用螺栓固定在真空室中，并且能够承载自身的重量。不需要表格。这

设计还允许安装在几乎任何方向。

抗错位能力强

由于坚固的设计，即使是更小的凸块也不会影响仪器的对齐。如果在启用电机控制时仪器受到重击，则

可以使用光栅定位电机将光栅重新定位到保存的设置。此外，没有入口狭缝的光谱仪的概念也使

仪器对错位不太敏感。在典型操作条件下，光束在光谱仪入口处的色散方向未对准

500um 将导致带有入口狭缝的仪器的信号减少 20% 以上，而我们的设计则不到 10%。

平场成像技术

我们所有的光谱仪都基于高质量的像差校正平场光栅。与传统相比

这些光栅将所有波长聚焦到一个平面上，而不是一个圆上。这允许定位整个

光栅焦平面中的探测器，以实现卓越的光谱分辨率。

maxLIGHT 专业版

无狭缝平面 XUV 光谱仪和光束轮廓仪

我们的 maxLIGHT 光谱仪具有从 1nm 到 200nm 的像差校正平场波长覆盖范围。

通过覆盖 1-20nm、5-80nm 和 40-200nm 的三个光栅，可以进行宽带光谱测量。

光谱仪可以在没有入口狭缝的情况下使用，以最大限度地收集距离光源一定距离

的一系列光信号。其模块化设计能够匹配不同的实验设备形状和配置。它具有一个

集成狭缝支架和滤光片插入单元，以及电动光栅定位。

特征

光源直接成像

将光源直接成像到探测器上，不需要狭窄的入口光圈
比标准版本多约 20 倍的光收集，从而实现信噪比提高了相同的比例
在一些实验中，这种改进的信号增强是实现测试成功的关键因素

坚固耐用的设计

设计紧凑，体积小巧
具有对由于入口狭缝缺失引起的不准直和对环境干扰不敏感的固有特征
无活动部件
绝对光栅位置监控，以保持光栅对齐
可以直接用螺栓固定到真空室

特殊解决方案

非磁性仪器
特殊外壳几何形状，室内解决方案
EMP 保护
特高压配置

捕获 1.PNG

样品测量表明信号强度有所提高。在相同的信号强度下，maxLIGHT 的分辨率（实线）明显高于标准光谱仪（虚线）。对于同等分辨率，标准技术将需要一个狭窄的狭缝设置，因此信号强度时有明显退化。专有的无缝隙技术提供高同时分辨率和信号强度。

（数据由 C. Hauri 教授、Paul Scherrer Inst.)

定制

每台光谱仪都经过定制以完全匹配所需的应用
与实验室设备匹配接口
源距离的适应
集成客户提供的探测器
用户定义的滤光片支架

捕获.PNG

样品测量证明了maxLIGHT的分辨能力。通过单个飞秒激光脉冲与固定目标和随后的光谱过滤生成所示的高谐振光谱。

底层内在结构的产生过程明显是由XUV光谱仪测得。

Plasma Phys. Control,Fusion 53 124021 (2011)

easyLIGHT 光谱仪

紧凑型无狭缝平场 XUV 光谱仪

我们的 easyLIGHT 光谱仪在真空紫外光谱中提供像差校正波长覆盖地区。基于法线入射几何，它提供光谱仪和单色仪功能。

高衍射效率光栅可以通过高精度定位系统围绕其顶点旋转，从而产生出射狭缝处的波长选择精度<0.1 nm。

入口和出口狭缝宽度通过千分尺螺钉或电动致动器（可选）可在 0.01 至 4 毫米范围内设置。

图像.png

源直接成像

▪ 用于 30 至 250nm 光谱范围的平场光谱仪

▪ 无需对准敏感的窄入口狭缝

▪比标准光谱仪多 ~20 倍的光收集，

导致信噪比的成比例改善

特殊解决方案

▪ 非磁性仪器

▪ 特高压配置

▪ 客户定制等

高效率和准确性

▪ 绝对光栅位置监控，以保持光栅对齐

▪ 光栅可通过软件控制

▪ 高效像差校正平场光栅

▪ 双杂散光滤波器

▪ 同类产品中最紧凑的光谱仪

捕获 1.PNG

定制

▪ 每台光谱仪都经过定制以完全匹配所需的

应用，例如：

▪ 与实验室设备接口

▪ 源距离的适应

▪ 集成客户提供的探测器

▪ 用户定制的滤光片支架

捕获.PNG

beamLIGHT光谱仪

HHG BEAMLINES 和光谱仪

我们的 beamLIGHT 光谱仪将专有的无狭缝光谱仪集成在紧凑的面积中

（50 厘米长）。这种架构大大提高了日常操作的稳健性，因为它结合了

具有像差校正平场覆盖和自动光束的最高光谱仪效率

旁路切换。模块化设计与各种实验几何形状和配置相匹配

以及具有光束诊断功能的标准和超高真空版本，例如光束分析仪

或可以合并的波前传感器。

图像.png

总控 HHG 源

▪ 可靠稳定运行数周，无需重新校准

▪ 维护工作量低，完全专注于实验

▪ 一站式集成系统

▪ 模块化系统设计，具有出色的可访问性

长期稳定的气体控制

▪ 增加 LIDT 的耐用性，气体可稳定工作数月

▪ 精确的闭环定位

▪ 闭环气体流量控制器

▪ 与固体和旋转目标快速交换

真空脱脂

▪ 减少 XUV 再吸收以获得更高的信号强度

▪ 10 ^-4减少气体负荷

XUV 光谱滤波器

▪ 用于共线泵/探针实验的分段箔

▪ 提高了高强度光束的散热性能，可稳定运行数月

highLIGHT 光谱仪

高分辨率平场 XUV 光谱仪

我们的 highLIGHT 光谱仪具有从 1nm 到 100nm 的像差校正平场波长覆盖范围。

它还在市场上以方便的平场配置提供最高的光谱分辨率。highLIGHT有

a 0.006nm 或更好的分辨率，与宽的单波长覆盖范围相结合，可直接使用或

或无入射狭缝使用。其模块化设计能够匹配不同的实验设备形状和配置。

它具有集成的狭缝支架和滤光片插入单元，以及电动光栅定位。

高光谱分辨率

▪ 1 至 100nm 光谱范围的平场光谱仪

▪ 一流的光谱分辨率与用户友好的平场配置相结合

▪ 极高光谱分辨率、宽光谱覆盖范围和出色信噪比的独特组合

高效率

▪ 无狭缝设计：无需对准敏感的窄入口狭缝

▪ 比标准光谱仪多约 20 倍的光收集，从而成比例地提高信噪比

准确性和效率

▪ 绝对光栅位置监控，以保持光栅对齐

▪ 高效像差校正平场光栅

▪ 软件控制方便

捕获.PNG

定制

• 每台光谱仪都经过定制，以完全匹配所需的应用，

• 连接到实验室设备

• 源距离的可适应性

• 集成客户提供的探测器

• 用户定义的滤光安装支架

捕获 1.PNG

XUV相机选项

产品
样式	maxCAM	easyCAM	XF95
传感器	来自 e2v（1 级）的背照式 CCD，增强工艺，未镀膜	来自 e2v（1 级）的前照式 CCD，增强工艺	无Ti反射涂层的背照sCMOS
波长	1-100nm( 最佳 QE)	50-300nm	-
像素	1024 x 255 *		2048 x 2048
像素大小	26 x 26 um		11um x 11 um
图像区域	26.7 x 6.7 mm		22.5mm x 22.5mm
频谱速率	200/s 全垂直 bin, 1000/s 裁剪模式		80-1000eV; 200 nm-1100nm
最低温度	-60° C 风冷		-50° C @20° C 室温
井深	500 000 电子活动区域, 1 000 000 电子缓存		90 000 e-
读取噪声	典型值 12.5 e @ 500kHz		1.6 e- (中位数)
暗电流	0.004 e- /px/s at -60°C 时为		-
线性度	>99%		-
真空兼容性	10^-8mbar		10^-7Pa(最大值)

相关光谱仪产品

产品型号	波长（纳米）	分散	分辨率
maxLIGHT Pro (XUV)	5 to 80	0.5 to 1.3nm/mm	<0.028nm at 40nm
easyLIGHT (XUV)	30 to 250	~2.0nm/mm	<0.1nm
highLIGHT(XUV)	1 to 100	-	<0.1nm
maxLIGHT (VUV)	40 to 200	0.9 to 1.6nm/mm	<0.05nm at 120nm
easyLIGHT (VUV)	80 to 300	~2.5nm/mm	<0.1nm
X射线光谱仪	2-4 keV	-	0.3eV
扩展X射线光谱仪	5-12keV	-	-
近边缘X射线吸收	200 - 1200eV	-	-

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	Availability	Reference Price (USD)
easyLIGHT XUV Spectrometers Compact No-slit Flat-field XUV Spectrometer, Wavelength coverage 100nm - 300nm Resolution <0.1nm	4-6 Weeks	Request for quote
highLIGHT XUV Spectrometers High-resolution Flat-field XUV Spectrometer, Wavelength coverage 1nm - 60nm Flat field size 90mm	4-6 Weeks	Request for quote
maxLIGHT pro XUV Spectrometers No-slit Flat-field XUV Spectrometer and Beam Profiler, Wavelength coverage 1nm - 200nm Flat field size 35-70mm	4-6 Weeks	Request for quote
nanoLIGHT XUV Spectrometers Integrated XUV spectrometer and beam profiler	4-6 Weeks	Request for quote
beamLIGHT XUV Spectrometers HHG Source Systems	4-6 Weeks	Request for quote
easyCAM FSI 1024x256 BSI CCD, Pixel 1024x256, Wavelength 50-300nm, Pixel size 26*26um	8-12 Weeks	Request for quote
maxCAM BSI 1024x512 BSI CCD, Pixel 1024x512, Wavelength 1-100nm, Pixel size 26*26um	8-12 Weeks	Request for quote
maxCAM BSI 1024x256 BSI CCD, Pixel 1024x256, Wavelength 1-100nm, Pixel size 26*26um	8-12 Weeks	Request for quote