无掩膜紫外光刻机 | 瑆创光子学商店

开环谐振器阵列。右侧的分离距离为1.5µm (箭头)，左侧的分离距离为 2 µm。 

外圈直径为 80 µm。

硅衬底上的光刻胶微图案阵列。 每个单元为 50 × 63 µm，相邻图案之间的间距为

 3 µm。 使用的光刻胶：AZ5214E

0.8 µm 锥形中间部分，侧面有 20 ✕ 90 µm 接触电极。 使用的光刻胶：AZ5214E

充当整个样本阶段的小地图。 可以查看加载的图案和暴露区域。 黑色 bos 显示 BEAM ENGINE 当前所在的区域。 摄像头窗口上的实时视频也对应相同的区域。

摄像头窗口显示 BEAM ENGINE 下方的图案。 相机窗口在对齐过程中也起着重要作用，其中选定的对齐特征显示在 amera 流上。

    模块化光学设计

      可更换的光学元件可最大限度地减少停机时间并提高可升级性。

      定制选项可用于不同的波长和写场大小。联系我们 info@simtrum.com

      了解更多信息 。

运行需求

功率

BEAM 在 100-240 VAC 50-60j Hz 上运行。 自动感应线路电压和频率； 因此，无需设置任何开关。 检查您所在地区的工作电压是否兼容。

放置环境

● 室内、无尘、近非导电污染（EN61010-1:2010 2 级）

● 桌面振动应保持在 VC-A (50 um/s) 以下

● 非超净间环境下可使用 (Vibration Reference link)

● 设备必须避免阳光直射

● 相对湿度 < 80%（无冷凝）

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